Японская компания Toppan Printing дополнила соглашение о совместной разработке с IBM положением о создании фотошаблонов для 14-нм технологии для логических устройств. Эти компании воспользуются методом 193-нм иммерсионной литографии.
Работы в рамках этого соглашения будут вестись на производстве фотошаблонов IBM в г. Эссекс-Джанкшн и производстве Toppan в Нииза, Япония, с января 2011 по 2012 гг.
Для литографических решений следующего поколения была проведена оценка нескольких новых технологий, в т.ч. жесткого ультрафиолета (EUV). В то время как Toppan Printing будет применять эти методы, IBM воспользуется методом иммерсионной литографии на основе лазера ArF, возможности которой будут расширены для реализации 14-нм процесса.
Похоже, 14-нм технология – последний рубеж, который будет взят с использованием только методов оптической литографии. Возможно, эта технологическая норма окажется переходной на пути к применению метода жесткого ультрафиолета, когда уже нельзя будет задействовать дифракционные эффекты в 193-нм литографии.
Новое соглашение между двумя компаниями является продолжением сотрудничества, начавшегося в 2005 г. с разработки 45-нм фотошаблона и в дальнейшем 32-, 28- и 20-нм технологий.
Источник: EETimes