Вход |  Регистрация
 
 
Время электроники Вторник, 12 декабря
 
 

Это интересно!

Ранее

GPS грозит исчезновение?

Пользователи GPS нуждаются в защите от новых сетей четвертого поколения. 17 компаний США приняли решение объединиться в коалицию Coalition to Save Our GPS с единственной целью – защитить GPS от новых технологий. По мнению коалиции, перед пользователями GPS возникла угроза в результате недавнего довольно странного решения Федеральной комиссии по связи США (FCC).

Панические настроения могут ударить по цепочке поставок микросхем

Многие ОЕМ-производители начали лихорадочно скупать электронные компоненты из-за страха сбоя поставок из Японии, сообщают аналитики IHS iSuppli.

США намерены манипулировать социальными сетями

Военные США разрабатывают компьютерную программу, которая позволит секретно манипулировать на сайтах таких популярных сетей как Facebook и Twitter, пишет британская газета Guardian со ссылкой на представителя штаба Центрального командования США.

 

21 марта

Panasonic начала поставлять 32-нм микросхемы по технологии high-k

Однажды Panasonic заявила о том, что поставки ее первых 32-нм компонентов, выполненных по технологии high-k/metal-gate, начнутся в октябре 2010 г.

О

днако это произошло только сейчас. По утверждению Дика Джеймса (Dick James), аналитика компании Chipworks, причина этой задержки – в цепочке поставок, т.к. на кристаллах в качестве даты производства указан конец октября.

В ноябре 2007 г. Panasonic поставила 45-нм компоненты, выполненные по технологии high-k metal-gate (HKMG). Ей удалось это сделать почти одновременно с началом поставок 45-нм ИС компании Intel. Появление 32-нм компонентов почти на год отстает от аналогичной продукции других компаний, но Panasonic первой удалось запустить массовое производство этой продукции.

В 32-нм компонентах Panasonic используются восемь медных и один алюминиевый слой. Размер кристалла в стандартном корпусе FC-BGA составляет 45 кв.мм, шаг металлизации – 120 нм. Panasonic утверждает, что производительность транзисторов увеличилась на 40%. В то же время потребление кристаллов снизилось на 40%, и на 30% стала меньше их посадочная площадь.

По данным инженеров Chipworks, при производстве микросхем Panasonic на затвор из поликристаллического кремния была нанесена пленка из нитрида титана (TiN) с тонким слоем диэлектрика high-k. Кроме того, при формировании кристаллов использовалась технология двойного разделительного слоя, а также слоя нитрида в областях стока-истока. При формировании ИС также применялась технология напряженного кремния.

По мнению Chipworks, эти методы отличаются от тех, которые использует Intel. Новые ИС не только имеют большую производительность, но и более высокую степень интеграции, меньшие размеры и стоимость, а также меньшие токи утечки.

Источник: EETimes

Оцените материал:

Комментарии

0 / 0
0 / 0

Прокомментировать







 

Горячие темы

 
 




Rambler's Top100
Руководителям  |  Разработчикам  |  Производителям  |  Снабженцам
© 2007 - 2017 Издательский дом Электроника
Использование любых бесплатных материалов разрешено, при условии наличия ссылки на сайт «Время электроники».
Создание сайтаFractalla Design | Сделано на CMS DJEM ®
Контакты