Вход |  Регистрация
 
 
Время электроники Суббота, 15 декабря
 
 

Это интересно!

Ранее

Производители пассивных компонентов сообщают о росте доходов во II кв.

Тайваньская компания Polytronics Technology, специализирующаяся на компонентах для защиты цепей, сообщила о том, что ее консолидированные доходы во II кв. составили 15,55 млн долл., что на 29,4% выше показателя I кв.

Серийное производство 18-дюймовых пластин откладывается до 2018 г.

Несмотря на то, что Intel, TSMC и Samsung Electronics инвестировали средства в рамках программы ASML, разработка нового поколения 18-дюймовых пластин может быть отложена с 2016 на 2018 г.

Доля России на мировом рынке космонавтики выросла до 2%

Проигрыш в области электроники и систем управления не позволил закрепиться России на этом рынке на должном уровне — мы отстаем от США, Европы и Китая.

Реклама

По вопросам размещения рекламы обращайтесь в отдел рекламы

Реклама наших партнеров

 

29 августа 2012

TSMC примет участие в создании литографической системы для 10-нм проектов

Фаундри TSMC присоединилась к консорциуму по разработке системы многолучевой электронной литографии, возглавляемого компанией IMS Nanofabrication. Среди участников этой организации – компании Dai Nippon Printing Co., Intel и Photronics.

Ц

ель сотрудничества этих компаний состоит в разработке к 2015 г. высокопроизводительной системы создания масок с помощью многолучевой электронной литографии для проектных норм менее 10 нм.

В настоящее время близится к завершению этап проверки концепции этой программы. На следующем этапе совместной работы консорциума будет вестись разработка и создание альфа- и бета-версий многолучевой установки для получения масок.

В сообщении не указаны финансовые условия участия TSMC и других членов этого консорциума.

Источник: EE Times

Читайте также:
Электронно-лучевая литография спешит в массы
Зачем разработчикам знать про литографию
Дискуссия о перспективах субмикронной литографии и 450-мм пластин
Ученые из Массачусетского института технологий добились 9-нм разрешения
Субмикронная УФ-литография появится нескоро
Передовые процессы литографии для современного микроэлектронного производства

Оцените материал:

Комментарии

0 / 0
0 / 0

Прокомментировать







 

 
 




Rambler's Top100
Руководителям  |  Разработчикам  |  Производителям  |  Снабженцам
© 2007 - 2018 Издательский дом Электроника
Использование любых бесплатных материалов разрешено, при условии наличия ссылки на сайт «Время электроники».
Создание сайтаFractalla Design | Сделано на CMS DJEM ®
Контакты