Вход |  Регистрация
 
 
Время электроники Вторник, 19 ноября
 
 


Это интересно!

Ранее

Фотоника: разработан полностью оптический коммутатор

Компьютеры становятся быстрее с каждым годом, но все их достижения в скорости станут незначительными, если их единицы и нули будут передаваться вспышками света, а не электричеством.

Норвежские инженеры вырастили арсенид галлия на графене

Норвежская компания CrayoNano вырастила на графене GaAs-нанопроволоку — запатентованный гибридный материал с конкурентоспособными оптоэлектронными свойствами.

VIA анонсирует первую материнскую плату Pico-ITX с функциями 3D-дисплея

Компания VIA Technologies анонсирует материнскую плату EPIA-P910 Pico-ITX – первую плату, оснащенную графическим процессором VIA VX11H MSP и процессором QuadCore E-series.

Реклама

По вопросам размещения рекламы обращайтесь в отдел рекламы

Реклама наших партнеров

 

14 сентября 2012

Intel видит техническую возможность производства 10-нм кристаллов

На недавно состоявшемся Форуме Intel для разработчиков Марк Бор, директор отдела технологий и производства, заявил о том, что его компания нашла способ создания 10-нм процесса с использованием иммерсионной литографии, а первые 14-нм кристаллы появятся до конца 2013 г.

П

о словам Бора, освоение 10-нм процесса начнется в 2015 г. или позже. Для некоторых масочных слоев потребуется применение метода четырехкратного экспонирования, который, однако, не будет дорогостоящим. При этом Бор не уточнил планы Intel относительно 14- и 10-нм техпроцессов, отметив только принципиальную техническую возможность их освоения.

Intel уже давно занимается совершенствованием литографии глубокого ультрафиолета (EUV). Недавно Intel инвестировала 4,1 млрд долл. в совместную с ASML программу, которая позволит быстрее освоить новые проектные нормы. По словам Бора, разработка метода EUV очень важна для компании, но она не ограничивается лишь этой технологией, продолжая исследовать возможности иммерсионной литографии с многократным экспонированием.

Марк Бор, Intel

В производстве некоторых 14-нм кристаллов Intel будет использоваться метод двойного экспонирования, а на меньших проектных нормах – четырехкратного.

На 14 нм увеличится стоимость кремниевых пластин (что связано с применением двойного экспонирования), однако она компенсируется большей плотностью элементов. В результате стоимость пластин с учетом количества транзисторов будет уменьшаться с каждым следующим поколением.

По словам Бора, эта тенденция будет наблюдаться и на 10 нм даже при использовании иммерсии. На текущий момент освоение фотолитографии глубокого ультрафиолета идет меньшими темпами, чем хотелось бы, и на нее нельзя полагаться наверняка. В то же время Intel – возможно, последняя компания, которая продолжает осваивать новый техпроцесс каждые два года.

Группы разработчиков Intel в Орегоне изучают возможности техпроцессов, транзисторов, межсоединений, памяти, но не все их усилия дают ожидаемые результаты.

Отдельно Бор остановился на политике Intel в области производства кристаллов для других компаний. По его словам, фаундри-модель для Intel не является самоцелью, но этот бизнес потихоньку приносит свои плоды. Помимо прямой выгоды от продажи пластин, которую получает Intel, ее инженеры, сотрудничая с разработчиками других компаний, постигают способы оптимизации техпроцессов с учетом конкретных требований.

Intel рассматривает много разных вариантов техпроцессов, в т.ч. и тех, которые не отображены на этом слайде

Источник: EE Times

Читайте также:
Intel вложит в ASML более 4 млрд долл. для разработки производства 450-мм пластин
ASML остается лидером на рынке литографического оборудования
У EUV-литографии альтернатив нет
Intel и IBM вложат 4,4 млрд долл. в создание исследовательского центра
Субмикронная УФ-литография появится нескоро
Ученые из Массачусетского института технологий добились 9-нм разрешения
IMEC готова к созданию 14-нм кристаллов
Intel представила 22-нм центральные процессоры Ivy Bridge
Intel представила первые данные о 15-нм чипах
Аналитики вскрыли новейший процессор Ivy Bridge от Intel

Оцените материал:

Комментарии

0 / 0
0 / 0

Прокомментировать







 

Горячие темы

 
 




Rambler's Top100
Руководителям  |  Разработчикам  |  Производителям  |  Снабженцам
© 2007 - 2019 Издательский дом Электроника
Использование любых бесплатных материалов разрешено, при условии наличия ссылки на сайт «Время электроники».
Создание сайтаFractalla Design | Сделано на CMS DJEM ®
Контакты