Научно-исследовательский центр imec и компания Cadence Design Systems объявили о том, что результатом их продолжительного сотрудничества стала подготовка к передаче в производство первой в отрасли тестовой микросхемы, рассчитанной на изготовление по нормам 3 нм.
Проект подготовлен в расчете на использование литографии в жестком ультрафиолетовом диапазоне (EUV) и иммерсионной литографии с длиной волны источника 193 нм (193i). Для проектирования были использованы программные пакеты Cadence Innovus Implementation System и Genus Synthesis Solution. В качестве тестового изделия специалисты Imec выбрали обычный 64-разрядный CPU. Они разработали специальную библиотеку стандартных элементов, рассчитанных на нормы 3 нм, и слой металлизации с шагом разводки 21 нм.