Вход |  Регистрация
 
 
Время электроники Воскресенье, 26 января
 
 

Это интересно!

Новости

Приглашение к участию в ежегоднике «Живая Электроника России» 2020


Обзоры, аналитика


Интервью, презентации

Ранее

SMSC приобретает Symwave – поставщика микросхем с поддержкой USB 3.0

Приобретая фаблесс-компанию Symwave, которая поставляет высокопроизводительные ИС для периферийных и интерфейсных устройств, компания SMSC надеется увеличить доходы и ускорить свой выход на рынок устройств USB 3.0.

Samsung теснит конкурентов на рынке DRAM

Инвестиции в развитие производства и производственные технологии обернулись для Samsung ростом доли рынка DRAM в III кв., сообщает агентство iSuppli.

Дистрибьютор EBV собирается продавать собственные компоненты

На состоявшейся в Мюнхене выставке Electronica в своем выступлении на тему о дистрибуции компания EBV Elektronik представила ряд микросхем под своим брендом. О своем намерении играть определяющую роль в разработке кристаллов дистрибьютор EBV сообщил еще в начале этого года.

 

16 ноября

Университет Нью-Мехико подает в суд на Intel

Отдел лицензирования технологий Университета Нью-Мехико подал 15-го ноября иск в федеральный суд, в котором корпорация Intel обвиняется в нарушении патента этого университета на изобретение технологии двойного шаблона.

В

июне этого года организация UNM.STC, представляющая собой отдел лицензирования при Университете Нью-Мехико, подала аналогичные иски против компаний TSMC и Samsung Electronics Co. в Комиссию по международной торговле США. Лиза Кууттила (Lisa Kuuttila), президент и исполнительный директор STC, заявила, что иски были поданы вслед за тем, как TSMC и Samsung согласились приобрести лицензию на эту технологию. По сообщению STC, компании Renesas Electronics Inc., Hynix Semiconductor Inc. и Toshiba Corp. также выплачивают лицензионные отчисления этой организации.

Кууттила отказалась сообщить более подробную информацию о лицензионных соглашениях, включая размеры отчислений. Кууттила также отказалась назвать, против каких других полупроводниковых компаний STC намеревается подать аналогичные иски.

Кууттила сказала, что Университет Нью-Мехико надеется украсить список производителей полупроводников крупнейшей компанией отрасли. «Произойдет настоящая сенсация, когда Intel станет нашим лицензиатом», – считает Кууттила.

Производители полупроводников используют метод двойного шаблона для компенсации сужения ширины линий и размытия изображения, начиная с появления технологии 32 нм. Существует несколько различных методов двойного шаблона. Неизвестно, все ли из них заявлены в патенте на эту технологию литографии.

В 2000 г. Университет Нью-Мехико получил патент США № 6,042,998 под названием Extending Spatial Frequencies in Photolithography Images («Метод и инструментальные средства увеличения пространственной частоты в фотолитографических изображениях»). Эта технология была разработана несколькими исследователями университета, в т.ч. Стивеном Брюком (Steven R. J. Brueck), директором центра исследований высокотехнологичных материалов.

 

Источник: EETimes

Оцените материал:

Комментарии

0 / 0
0 / 0

Прокомментировать







 

Горячие темы

 
 




Rambler's Top100
Руководителям  |  Разработчикам  |  Производителям  |  Снабженцам
© 2007 - 2020 Издательский дом Электроника
Использование любых бесплатных материалов разрешено, при условии наличия ссылки на сайт «Время электроники».
Создание сайтаFractalla Design | Сделано на CMS DJEM ®
Контакты