Компания ASML продала в I кв. текущего года 47 новых и 5 устаревших автоматов, тогда как в IV кв. 2011 г. количество поставленных установок составило 35 и 6, соответственно.
По словам Эрика Мериса (Eric Meurice), главного исполнительного директора ASML, спрос на системы в ближайшие два квартала будет определяться, главным образом, фаундри-компаниями и интегральными производителями. Потребность в оборудовании для производства 28-нм логических микросхем по-прежнему велика и останется таковой до запуска опытного оборудования по изготовлению 20-нм продукции. ASML ожидает, что в 2012 г. появится спрос на оборудование для изготовления NAND-памяти по нормам ниже 20 нм DRAM-памяти по нормам ниже 30 нм.
Система NXE:3300B второго поколения. Источник: ASML
В то же время прибыль компании и объемы продаж сократились на 28 и 13,8%, соответственно, по сравнению с I кв. 2011 г. Объем заказов, исключая EUV-сканеры, достиг 865 млн евро, тогда как в IV кв. прошлого года этот показатель составил 710 млн евро. Средняя цена 36 систем, заказанных в I кв., равна 24 млн долл., тогда как в предыдущем квартале она составила 19 млн долл. для 37 систем.
Объем невыполненных заказов на 56 автоматов составляет 1,6 млрд долл., тогда как кварталом ранее этот показатель был несколько выше — 1,7 млрд (71 автомат). Ожидается, что объем продаж во II кв. составит 1,2 млрд долл., а в первой половине 2012 г. — 2,4 млрд долл.
Шесть устаревших EUV-сканеров относятся к типу NXE:3100. Мощность созданного опытного образца источника УФ-излучения для EUV-сканеров составляет 30 Вт. Перед компанией стоит цель повысить к концу года производительность сканеров до 60 пластин в час.
Поставки первых 11 установок NXE:3300B, преемниц NXE:3100, начнутся в IV кв.
Источник: ElectronicsWeekly.com
Читайте также:
ASML отмечает снижение количества заказов
Субмикронная УФ-литография появится нескоро
ASML остается лидером на рынке литографического оборудования
ASML лидирует по продажам производственного оборудования в 2011 г.
Компания ASML выпускает EUV-оборудование для 16-нм техпроцесса
Битва между Globalfoundries и TSMC на пути к 20 нм и далее
TSMC ожидает хороших финансовых результатов за 1Q12
Ученые из Массачусетского института технологий добились 9-нм разрешения
IBM и Toppan воспользуются иммерсионной литографией для 14-нм процесса
Цена EUV-сканера превысила 120 млн долл.