Вход |  Регистрация
 
 
Время электроники Среда, 16 октября
 
 


Это интересно!

Новости


Обзоры, аналитика


Интервью, презентации

Ранее

Закону Мура угрожают проблемы с реализацией метода EUV-литографии

Серийное производство 14-нм кристаллов будет перенесено на 2014 г. или позднее, если не будут найдены мощные источники для фотолитографических установок глубокого ультрафиолета (EUV).

Рост фаундри-рынка опережает рост остальной полупроводниковой отрасли

Повышенное внимание полупроводниковой отрасли к сегменту мобильных устройств будет означать, что фаундри-индустрия станет расти опережающими темпами в прогнозируемом будущем.

Производители MLCC снизят загрузку фабрик в 4Q12

Сезонное падение спроса на многослойные керамические конденсаторы вынуждает производителей снижать загрузку своих предприятий и понижать цены на готовую продукцию

Реклама

По вопросам размещения рекламы обращайтесь в отдел рекламы

Реклама наших партнеров

 

12 октября 2012

Как «спасти» закон Мура?

Одним из способов сохранить в силе закон Мура и уберечь, таким образом, отрасль от неприятных для нее последствий, состоит в присвоении каждой серии изменений техпроцесса, например на 20 нм, последовательно меньшей проектной нормы.

Т

аким образом, метод двойного экспонирования с использованием EUV- и иммерсионной литографии будет по-прежнему использоваться для изготовления кристаллов по нормам 16, 14, 10 нм и т.д. в полном соответствии с законом Мура. И до тех пор, пока размеры того или иного элемента кристалла поддаются измерению, имеется возможность подтвердить соответствие этого размера заявленной проектной норме.

Разумеется, те преимущества в сокращении площади кристаллов и их стоимости, которые прежде достигались при переходе на новые нормы, в дальнейшем не будут такими очевидными. Однако в том случае, если заинтересованность проектировщиков кристаллов в снижении энергопотребления будет превалировать над их стремлением уменьшить площадь ИС по мере перехода к меньшим топологическим нормам, будет наблюдаться дальнейший прогресс.

Источник: EE Times

Читайте также:
Intel сокрушит ARM на проектных нормах менее 20 нм
Globalfoundries пытается обойти конкурентов: 14 нм к 2014 г.
Спин-транзисторы разгонят компьютеры в миллион раз

Оцените материал:

Комментарии

0 / 0
0 / 0

Прокомментировать







 

 
 




Rambler's Top100
Руководителям  |  Разработчикам  |  Производителям  |  Снабженцам
© 2007 - 2019 Издательский дом Электроника
Использование любых бесплатных материалов разрешено, при условии наличия ссылки на сайт «Время электроники».
Создание сайтаFractalla Design | Сделано на CMS DJEM ®
Контакты