Вход |  Регистрация
 
 
Время электроники Пятница, 15 ноября
 
 


Это интересно!

Ранее

IC Insights: на полупроводниковом рынке грядут большие изменения

В ближайшие годы объём рынка ИС для коммутационных приложений превысит объём рынка компьютерных ИС.

MIC: в 2012-2013 гг. рост тайваньской п/п-индустрии будет опережать темпы роста глобального п/п-рынка

Рост объёма производства полупроводников на Тайване в 2012 и 2013 году существенно опережает рост глобальной полупроводниковой промышленности.

Рынок автомобильных магнитных датчиков в 2012 году

Рынок автомобильных магнитных датчиков уже три года растёт бурными темпами, что будет дальше?

Реклама

По вопросам размещения рекламы обращайтесь в отдел рекламы

Реклама наших партнеров

 

22 октября 2012

ASML и Cymer сообща создадут установку для EUV-литографии

EUV-литография рассматривается как один из основных методов формирования элементов полупроводниковых схем на меньших топологических нормах. Однако появилось немало скептиков, озабоченных более медленными, чем ожидалось, темпами освоения новых проектных норм.

К

омпания ASML, поставляющая литографические системы для полупроводниковой индустрии, и Cymer, поставщик источников света для изготовления современных полупроводниковых устройств, тесно сотрудничают уже более года. Недавно они заявили о заключении окончательного соглашения, в соответствии с которым ASML приобретет все обращающиеся акции Cymer на сумму в 1,95 млрд евро.

Цель достигнутого договора – использовать опыт Cymer в разработке источников света для EUV-систем, опыт ASML в проектировании литографических установок и интеграции оборудования, чтобы снизить риск неудачного решения и ускорить освоение этой очень сложной технологии. Сделка, которая закроется в первой половине 2013 г., была единодушно одобрена советами директоров ASML и Cymer.

На шести опытных EUV-установках NXE:3100 компании ASML, которые обеспечивают разрешение в соответствии с 22-нм проектной нормой в режиме одиночного экспонирования, на предприятиях заказчиков были обработаны 23 тыс. пластин. При этом были достигнуты хорошие показатели совмещения и формирования изображений. Следующая система, NXE:3300B, позволяет повысить разрешение до 14 нм в режиме одиночного экспонирования. С помощью этой установки возможности совмещения увеличиваются до 1,3 нм, но дальнейшее совершенствование техпроцесса осложняется отсутствием мощного источника света.

Источники света от Cymer мощностью до 11 Вт позволили повысить производительность EUV-систем NXE:3100 до семи пластин в час. За прошедшее лето компаниям ASML и Cymer удалось достичь существенного прогресса, создав 30-Вт опытный образец источника света, который позволил увеличить производительность NXE:3300B до 18 пластин в час. Однако перед ASML стоит задача увеличить к 2014 г. производительность систем до 69 пластин в час, т.е. мощность источника света должна составить 105 Вт.

Первые системы NXE:3300B компании ASML будут установлены в 2013 г. в лабораториях нескольких заказчиков для проведения научно-исследовательских работ.

Источник: EE Times

Читайте также:
Создан источник излучения для EUV-литографии
Intel вложит в ASML более 4 млрд долл. для разработки производства 450-мм пластин
Темпы освоения новых топологических норм замедляются
У EUV-литографии альтернатив нет
ASML лидирует по продажам производственного оборудования в 2011 г./
ASML остается лидером на рынке литографического оборудования
Компания ASML выпускает EUV-оборудование для 16-нм техпроцесса
Оборудование ASML для 20-нм процесса появится уже в этом году
22-нм технология FinFET от Intel: официальные и неофициальные подробности
Институт IMEC установил превосходство FinFET-технологии
Перспективы техпроцесса на нормах ниже 10 нм по мнению IMEC
Без 450-мм производства Европа безнадежно отстанет от лидеров мирового рынка
Intel подтверждает планы создания 450-мм производства
Ни одна страна не откажется от размещения 450-мм фабрики
Глава IMEC настаивает на запуске производства пластин 450 мм
Дискуссия о перспективах субмикронной литографии и 450-мм пластин

Оцените материал:

Комментарии

0 / 0
0 / 0

Прокомментировать







 

Горячие темы

 
 




Rambler's Top100
Руководителям  |  Разработчикам  |  Производителям  |  Снабженцам
© 2007 - 2019 Издательский дом Электроника
Использование любых бесплатных материалов разрешено, при условии наличия ссылки на сайт «Время электроники».
Создание сайтаFractalla Design | Сделано на CMS DJEM ®
Контакты