ASML и Cymer сообща создадут установку для EUV-литографии

EUV-литография рассматривается как один из основных методов формирования элементов полупроводниковых схем на меньших топологических нормах. Однако появилось немало скептиков, озабоченных более медленными, чем ожидалось, темпами освоения новых проектных норм.

Компания ASML, поставляющая литографические системы для полупроводниковой индустрии, и Cymer, поставщик источников света для изготовления современных полупроводниковых устройств, тесно сотрудничают уже более года. Недавно они заявили о заключении окончательного соглашения, в соответствии с которым ASML приобретет все обращающиеся акции Cymer на сумму в 1,95 млрд евро.

Цель достигнутого договора – использовать опыт Cymer в разработке источников света для EUV-систем, опыт ASML в проектировании литографических установок и интеграции оборудования, чтобы снизить риск неудачного решения и ускорить освоение этой очень сложной технологии. Сделка, которая закроется в первой половине 2013 г., была единодушно одобрена советами директоров ASML и Cymer.

На шести опытных EUV-установках NXE:3100 компании ASML, которые обеспечивают разрешение в соответствии с 22-нм проектной нормой в режиме одиночного экспонирования, на предприятиях заказчиков были обработаны 23 тыс. пластин. При этом были достигнуты хорошие показатели совмещения и формирования изображений. Следующая система, NXE:3300B, позволяет повысить разрешение до 14 нм в режиме одиночного экспонирования. С помощью этой установки возможности совмещения увеличиваются до 1,3 нм, но дальнейшее совершенствование техпроцесса осложняется отсутствием мощного источника света.

Источники света от Cymer мощностью до 11 Вт позволили повысить производительность EUV-систем NXE:3100 до семи пластин в час. За прошедшее лето компаниям ASML и Cymer удалось достичь существенного прогресса, создав 30-Вт опытный образец источника света, который позволил увеличить производительность NXE:3300B до 18 пластин в час. Однако перед ASML стоит задача увеличить к 2014 г. производительность систем до 69 пластин в час, т.е. мощность источника света должна составить 105 Вт.

Первые системы NXE:3300B компании ASML будут установлены в 2013 г. в лабораториях нескольких заказчиков для проведения научно-исследовательских работ.

Источник: EE Times

Оставьте отзывОтмена