Canon готова приступить к поставкам оборудования для нанопечати чипов


Порядка полутора лет курсируют новости о том, что компании Canon и Toshiba совместно разрабатывают техпроцесс для выпуска 15-нм NAND-флеш-памяти с использованием нанопечатной литографии.

 Это печать с использованием трафарета, который делает физический оттиск в слое фоторезиста на полупроводниковой пластине с последующим травлением. На днях компания Canon фактически подтвердила готовность поставлять промышленное оборудование для нанопечати с технологическими нормами в пределах 20-16 нм.

На выставке Tokyo International Forum 2015 компания показала трафарет для нанопечати с нормами 11 нм и пластину с элементами, выполненными с помощью этого трафарета. Подобная печать, отметим, лучше всего подходит для изготовления массивов флэш-памяти. Логику с использованием трафаретов выпускать нецелесообразно из-за высокого уровня брака. Физический контакт трафарета с фоторезистом ведёт к его быстрому засорению и повреждению. Повреждённые ячейки легко исключить с помощью коррекции ошибок, тогда как повреждение блоков логики вынудит забраковать весь чип.

Оборудование для промышленного выпуска с помощью нанопечатной литографии компания Canon начнёт поставлять в 2016 году. Поскольку на установку и отладку инструментов потребуется ещё до полутора лет, серийное производство флэш-памяти с использованием штампов начнётся в 2017 или 2018 году. Подобное оборудование дешевле традиционных сканеров, что обещает снизить себестоимость флэш-памяти и ускорить окупаемость оборудования.

Оставьте отзыв

Ваш емейл адрес не будет опубликован. Обязательные поля отмечены *