 |
|
||||||||||||
|
||||||||||||
Это интересно!Новости
РанееУмные дома разоряют россиян и портят им жизньУмные решения для дома давно стали мейнстримом — их используют в своих проектах не только застройщики элитного жилья, но и девелоперы совсем недорогих проектов. Стоит ли все бросать и немедленно устанавливать smart-систему у себя дома? Эксперты уверяют, что нет. Samsung и SK Hynix переводят производство чипов DRAM на технологию EUVПо сообщениям южнокорейских СМИ, компании Samsung Electronics и SK Hynix ускоряют перевод производства DRAM на технологию литографии в жестком ультрафиолетовом диапазоне (EUV). Вслед за сгибающимся смартфоном Samsung представит гибкий планшетСогласно информации, указанной в новом патенте, зарегистрированном компанией Samsung, южнокорейский производитель работает не только над сгибающимися смартфоном и ноутбуком, но и над аналогичным планшетом, что кажется вполне логичным. Да и слухи об этом уже появлялись в Сети. СсылкиРекламаПо вопросам размещения рекламы обращайтесь в Реклама наших партнеров |
25 октября 2018 Samsung запустил производство чипов по 7-нм техпроцессу с EUVТехпроцесс 7LPP (Low Power Plus) позволяет уменьшить площадь кристалла, одновременно повысив производительность или уменьшив энергопотребление.К
омпания Samsung Electronics объявила о завершении разработки технологического процесса 7LPP и начале производства полупроводниковой продукции с его использованием. Этот 7-нанометровый техпроцесс, оптимизированный по критерию энергопотребления, построен на использовании литографии в жестком ультрафиолетовом диапазоне (EUV). По словам одного из руководителей Samsung, внедрение 7LPP — «тихая революция в полупроводниковой отрасли». Она продемонстрировала не только текущие возможности компании, но и открыла путь к нормам 3 нм. В широко используемой сейчас иммерсионной литографии используется источник излучения с длиной волны 193 нм, а в литографии EUV — с длиной волны 13,5 нм. В результате при EUV можно использовать одну маску для слоя там, где в иммерсионной литографии необходим дорогостоящий набор, включающий до четырех масок. Уменьшение числа масок позволяет экономить время и снизить затраты, а также повысить процент выхода годной продукции. EUV также обеспечивает уменьшение размеров изделия при одновременном повышении производительности или уменьшении потребляемой мощности. По сравнению с 10-нанометровым предшественником выигрыш при использовании 7LPP по перечисленным критериям может достигать 40%, 20% и 50% соответственно. Samsung подчеркивает, что партнеры по экосистеме также полностью подготовлены для внедрения 7LPP с EUV. Заказчикам доступны средства проектирования, библиотеки стандартных элементов, сервисы тестирования и упаковки изделий в корпуса. Источник: Samsung Комментарии0 / 0
0 / 0
|
  Комментарии читателейHuawei начала производство 5-нанометровых процессоров [1] Ирландцы прижучили Apple, Samsung и LG Display после двух лет уговоров [1] Авторы закона о "суверенном Интернете" предлагают обязать идентифицировать всех пользователей e-mail [1] «Феникс Контакт РУС» и «Сколково» заключили партнерское соглашение в области энергоэффективности [1] Горячие темы |
||||||||||
|
|
||||||||||||
|
|
|||||||||||
| |
|
|||||||||||
