Вход |  Регистрация
 
 
Время электроники Пятница, 18 октября
 
 


Это интересно!

Новости


Обзоры, аналитика


Интервью, презентации

Ранее

Intel пустила под нож свои провальные процессоры с графикой от AMD

Intel многих удивила в 2017 году, представив процессоры Kaby Lake-G: в них CPU соединялся с GPU AMD Radeon Vega при помощи шины PCIe. И все это предлагалось в единой упаковке.

Tesla купила разработчика перспективных аккумуляторов

Собственные аккумуляторы с повышенной энергетической плотностью дадут Tesla конкурентное преимущество.

Нобеля по химии дали за разработку литий-ионных аккумуляторов

Нобелевскую премию по химии за 2019 год получат Джон Гуденаф (John B. Goodenough), Стэнли Уиттингем (Stanley Whittingham) и Акира Ёсино (Akira Yoshino) за разработку литий-ионных аккумуляторов.

Реклама

По вопросам размещения рекламы обращайтесь в отдел рекламы

Реклама наших партнеров

 

10 октября 2019

TSMC начинает массовые поставки чипов с первого серийного EUV-техпроцесса N7+

Компания TSMC начала эту неделю с объявления о начале крупномасштабных поставок продукции, изготовленной с использованием техпроцесса N7+.

Т

ехпроцесс N7+ стал первой в отрасли коммерчески доступной технологией литографии в жестком ультрафиолетовом диапазоне (EUV). Он основан на N7 — успешном классическом техпроцессе с нормами 7 нм.

По словам TSMC, освоение N7+ в серийном производстве оказалось одним из самых быстрых за всю историю. Серийный выпуск продукции был начат во втором квартале 2019 года, а уже сейчас процент выход годной продукции соответствует показателю, который для техпроцесса N7 удалось получить только за год использования в серийном производстве.

По сравнению с N7, техпроцесс N7+ обеспечивает на 15-20% большую плотность и улучшенное энергопотребление, что привлекает заказчиков. Поэтому для удовлетворения спроса TSMC быстро внедряет N7+ на новых мощностях.

Внедрение N7+ прокладывает путь для будущих передовых технологических процессов. Уже в первом квартале 2020 года TSMC рассчитывает начать использовать техпроцесс N6 (тоже EUV) в рисковом производстве, а к концу года — в серийном. На уровне правил разработки этот техпроцесс полностью совместим с N7.

Источник: TSMC

Комментарии

0 / 0
0 / 0

Прокомментировать







 

Горячие темы

 
 




Rambler's Top100
Руководителям  |  Разработчикам  |  Производителям  |  Снабженцам
© 2007 - 2019 Издательский дом Электроника
Использование любых бесплатных материалов разрешено, при условии наличия ссылки на сайт «Время электроники».
Создание сайтаFractalla Design | Сделано на CMS DJEM ®
Контакты