Tabula представит образцы 3D-ПЛИС на интеловском 22-нм FinFET-процессе


Tabula представляет технологию Spacetime 3D, которая использует скорее время, чем пространство в качестве третьего измерения.

Компания Tabula, специализирующаяся на трехмерной программируемой логике, в которой третье измерение – это время, предлагает образцы своих первых ИС, изготовленных на 22-нм FinFET-процессе Intel в третьем квартале.

ИС, названные ABAX2P1 предназначены для инфраструктуры сети 100 Гбит/с. Они могут обрабатывать четыре потока 100 Гбит/с одновременно.

Tabula называет свою технологию Spacetime 3D, потому что она использует скорее время, чем пространство в качестве третьего измерения, перепрограммируя каждый ресурс микросхемы для выполнения нескольких различных функций за пользовательский цикл – до 12 в этом поколении микросхем.

Чтобы уменьшить размер кристалла, ресурсы ИС распределены между 12 уровнями, которые Tabula называет folds (см. рис.).

Все компоненты в ИС Tabula – логика, ОЗУ, блоки умножения/накопления, межблочные связи – работают согласовано на частоте до 2 ГГц.

Tabula создала референсный дизайн для пакетной обработки, в который входит:

  • Набор для референтного дизайна (RDK) для моста 12х10 Гб/с-на-100 Гб/с, выполняющего функцию объединения, часто используемую в коммуникационных системах.
  • RDK для коммутатора 4х100 Гб/с, предназначенного для перевода дата-центров с 10 Гб/с на 40 и 100 Гб/с, что стало возможным из-за способности устройства обрабатывать несколько потоков 100 Гб/с.
  • RDK для второго поколения Ternary Search Engine (TSE), обеспечивающего функции поиска, необходимые для граничных маршрутизаторов и файерволов нового поколения (NGFW).

Чтобы облегчить пользователю процесс проектирования, компания также предоставляет комплект шаблонов дизайнов и программных IP-ядер, «скроенных» для многих наиболее критических для производительности функций, встречающихся в высокопроизводительном оборудовании пакетной обработки.

Читайте также:
Компания Tabula воспользуется 22-нм производством Intel
Altera начнет выпускать 20-нм ПЛИС в следующем году
Achronix выпустит 22-нм ПЛИС на фабриках Intel
IEDM: FinFET-технология Intel вызвала огонь критики конкурентов
22-нм технология FinFET от Intel: официальные и неофициальные подробности
Кремниевая фотоника в центре внимания на международной конференции OFC/NFOEC

Источник: Electronics Weekly

Оставьте отзыв

Ваш емейл адрес не будет опубликован. Обязательные поля отмечены *