GlobalFoundries сертифицирует комплексы проектирования для техпроцессов 20 и 14 нм


GlobalFoundries создала сертифицированные комплексы проектирования (design flows) для своих 20-нм техпроцесса с низким энергопотреблением и 14-нм FinFET техпроцесса.

GlobalFoundries разработала их совместно с Cadence, Mentor и Synopsys.

Комплексы проектирования поддерживают дизайны цифровых и аналоговых/смешанных сигналов, оба с демонстрацией влияния двухкратного экспонирования на процесс проектирования.

Комплексы проектирования работают с PDK (комплектом разработчика) от GlobalFoundries, чтобы позволяет предоставить примеры, демонстрирующие весь процесс.

Пользователь может скачать всю базу данных дизайнов, PDK, подробную документацию и скрипты по многим производителям, позволяющие изучить методы настройки и использования комплекса проектирования. Комплексы проектирования используют примеры с открытым кодом и обеспечивают пользователя полностью работающими, выполнимыми и настраиваемыми средствами.

«Работая на новом уровне сотрудничества с партнерами по EDA (САПР электроники), мы можем обеспечить лучшее понимание наших производственных процессов для того чтобы полностью использовать возможности 20-нм и 14-нм производственных процессов», – сказал представитель GlobalFoundries Энди Бротман (Andy Brotman).

Для работы с дизайнами аналоговых и смешанных сигналов GlobalFoundries модернизировала свои комплексы проектирования, предоставив скрипты качества продукции и методологии корпусирования. Новый референтный процесс организует рабочий процесс от спецификаций до физической верификации, сгенерированной для верификации на рабочем кремнии.

Комплекс проектирования аналоговых и смешанных сигналов предоставляет рекомендации по дизайну с двойным структурированием. Он дает общее представление о процессе декомпозиции как для уровня блока так и для уровня чипа. Процесс также находит декомпозицию для различных стилей дизайна. Рекомендации по балансировке цветов, иерархической декомпозиции и конструкторские изменения находятся в стадии обсуждения. Комплексы проектирования также показывают влияние декомпозиции на время контроля проектных норм (DRC) и размер базы данных.

GlobalFoundries продолжает открывать доступ к новым комплексам проектирования, поддерживающим полную методологию RTL-to-GDSII дизайна (на рисунке), предназначенного для техпроцессов 20 нм и 14 нм.

Читайте также:
Globalfoundries и Samsung в гонке за 14 нм
Globalfoundries уравняет шансы фаблесс-компаний на 14 нм
Globalfoundries пытается обойти конкурентов: 14 нм к 2014 г.
Гонка за 14-нм FinFET предполагает и перспективы, и риски
Samsung представила чипы FinFET на 14 нм
Altium представила новые продукты для рынка САПР электронных устройств
14 нм — очередная проверка закона Мура

Источник: Electronics Weekly

Оставьте отзыв

Ваш емейл адрес не будет опубликован. Обязательные поля отмечены *