Вход |  Регистрация
 
 
Время электроники Суббота, 20 октября
 
 


Это интересно!

Новости


Обзоры, аналитика


Интервью, презентации

Ранее

Две компании из США пока еще могут соперничать с китайскими производителями солнечных фотоэлементов

Компании First Solar и SunPower из США выгодно отличились от многочисленных китайских конкурентов, хотя их доли рынка фотоэлементов для солнечных батарей неуклонно снижаются.

Dialog Semiconductor первой в отрасли воспользуется BCD-процессом TSMC

Фаблесс-компания Dialog Semiconductor воспользуется 130-нм технологическим процессом BCD ведущей фаундри Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. для производства ИС по управлению питанием.

Рынок контрактного производства ИС вырос в 2011 г. на 5,1%

Краткий анализ состояния рынка контрактного производства ИС по материалам исследовательской и консалтинговой компании Gartner.

 

4 апреля 2012

ASML остается лидером на рынке литографического оборудования

На долю продаж голландской компании ASML Holding NV в 2011 г. приходится больше, чем на Nikon и Canon вместе взятых. А всего пару лет назад об этой компании никто не знал.

П

о итогам 2011 г. компания заняла 57% рынка инструментов для литографии. Ближайшие конкуренты, Nikon и Canon, заняли 28% и 15% соответственно.  В начале года расклад был совсем другим: Nikon 42%, Canon 35%, ASML 22%.

Раздвоение на рынке началось еще в 2004 г., когда ASML впервые заняла доминирующую позицию в поставках оборудования для ArF-литографии с длиной волны 193 нм. Конкуренты не смогли потеснить ее и в области субмикронной ультрафиолетовой литографии: компания начала массовый выпуск уже в 2005 г., в то время как Nikon планировал сделать то же самое лишь в 2014—2015 гг. Компания уже обогнала давнишнего лидера на рынке оборудования для производства полупроводниковых схем Applied Materials.

За 2011 год продажи оборудования для иммерсионной литографии ASML выросли на 82%. Рост продаж Nikon значительно меньше, лишь18%. 

В области оборудования для i-line литографии Canon занял 53%, Nikon 40%, ASML 8%. Однако вряд ли это можно считать весомым проигрышем. Одна установка этого типа стоит около 5 млн долл., в то время как за машину для иммерсионной литографии придется выложить не менее 30 млн.

Исчтоник: EE Times

Читайте также:
ASML лидирует по продажам производственного оборудования в 2011 г.
Компания ASML выпускает EUV-оборудование для 16-нм техпроцесса
Российская микроэлектроника 2011/2012: итоги и прогнозы
Электронно-лучевая литография спешит в массы
Зачем разработчикам знать про литографию
Субмикронная УФ-литография появится нескоро
Ученые из Массачусетского института технологий добились 9-нм разрешения
Дискуссия о перспективах субмикронной литографии и 450-мм пластин
Передовые процессы литографии для современного микроэлектронного производства
Новый тип литографии на основе сополимеров
IBM и Toppan воспользуются иммерсионной литографией для 14-нм процесса
Цена EUV-сканера превысила 120 млн долл.
В поисках замены транзистору
Курчатовский институт опередит Intel
ASML отмечает снижение количества заказов

Оцените материал:

Комментарии

0 / 0
0 / 0

Прокомментировать







 

 
 




Rambler's Top100
Руководителям  |  Разработчикам  |  Производителям  |  Снабженцам
© 2007 - 2018 Издательский дом Электроника
Использование любых бесплатных материалов разрешено, при условии наличия ссылки на сайт «Время электроники».
Создание сайтаFractalla Design | Сделано на CMS DJEM ®
Контакты