Вход |  Регистрация
 
 
Время электроники Понедельник, 17 декабря
 
 

Это интересно!

Ранее

IEEE обеспечит связь поколений между инженерами

Институт инженеров по электротехнике и радиоэлектронике (IEEE) создал отделение для опытных инженеров, которые хотят делиться своими знаниями с молодыми специалистами и помогать им.

Spansion и SK Hynix займутся производством микросхем SLC NAND

Компания Spansion заявила об образовании альянса с южнокорейским производителем микросхем памяти SK Hynix.

Рынок IP-ядер удвоится в ближайшие пять лет

Рынок интеллектуальной собственности (IP) для полупроводниковых устройств вырастет с 2,5 до 5,7 млрд долл. за период 2012–2017 гг. при совокупном годовом темпе роста (CAGR) более 14%, считают аналитики MarketsandMarkets.

 

9 апреля 2012

У EUV-литографии альтернатив нет

Компания Zygo, разработчик и производитель оптических систем и электрооптических измерительных приборов, получила от «главной полупроводниковой компании» заказ объемом 2 млн долл. на производство усовершенствованной оптики для установок фотолитографии глубокого ультрафиолета (EUV).

О

птическая система, на создание которой потребуется около двух лет, предназначена для разработки технологического процесса EUV-литографии.

Демонстрационная EUV-установка компании ASML на 300-мм фабрике IMEC. Источник: IMEC

Этот заказ будет выполняться в рамках научно-исследовательского проекта MET-5 по созданию установки для микроэкспонирования. Проект возглавляет консорциум Sematech. Усовершенствованная оптическая система позволит исследователям работать с элементами шириной менее 16 нм для разработки нового техпроцесса.

В октябре 2011 г. Zygo уже получила заказ объемом 9 млн долл. на разработку оптической системы в рамках проекта MET-5 от консорциума Sematech и Группы по наноразмерной науке и технике (College of Nanoscale Science and Engineering, CNSE). Условия соглашения предусматривают создание оптики для систем субмикронной литографии. Ожидается, что на разработку и производство зеркальной системы для EUV-литографии, в которой будет применяться высокоточная оптика от Zygo, потребуется 22 месяца.

Неясно, почему новый заказ поступил от «главной полупроводниковой компании», а не от CNSE или Sematech. Все компании — IBM, Intel, Globalfoundries Samsung, TSMC и Toshiba – работают с Группой CNSE. Однако Intel и TSMC являются наиболее вероятным кандидатами на роль главной полупроводниковой компании, поручившей Zygo изготовить оптические системы для субмикронной литографии.

Intel является мировым лидером в области миниатюризации производственных процессов. Так, например, эта компания уже работает по 22-нм технологии с использованием стандартных методов оптической литографии. В то же время компания TSMC получила экспериментальную установку для субмикронной литографии от ASML Holding, благодаря чему имеет возможность ускорить разработку соответствующего процесса. При этом компания IBM считается лидером в Альянсе CPA (Common Platform Alliance), в который входят Samsung и Globlfoundries.

Следует заметить, что Люк ван ден Хоув, президент IMEC (микро- и наноэлектронный научный центр), считает, что у субмикронной литографии нет альтернативы — она и в дальнейшем будет применяться в производстве микросхем. Этот научный центр приобрел у ASML самую первую установку для субмикронной литографии, однако до сих пор не смог решить проблему отсутствия достаточно яркого источника света.

В настоящее время ASML прилагает огромные усилия, чтобы решить эту задачу. Для реализации литографической технологии по нормам 10 нм и меньше предлагалось использовать электронно-лучевые установки и другие методы, однако ван ден Хоув уверен, что существующая проблема будет решена уже выбранным способом.

Центр IMEC сотрудничает с ASML более 20 лет. Если ASML большее внимание уделяет вопросам создания оборудования, то IMEC занимается разработкой этапов техпроцесса, резистов, фотошаблонов и пр. По словам Хоува, настало время, когда нельзя создать новый инструмент, не учтя особенностей техпроцесса и технологического оборудования на производстве.

Источник: EE Times

Читайте также:
Intel и IBM вложат 4,4 млрд долл. в создание исследовательского центра
Субмикронная УФ-литография появится нескоро
Ученые из Массачусетского института технологий добились 9-нм разрешения
Электронно-лучевая литография спешит в массы
Темпы освоения новых топологических норм замедляются
Компания ASML выпускает EUV-оборудование для 16-нм техпроцесса
ASML остается лидером на рынке литографического оборудования
ST Ericsson открывает центр в Кремниевой долине
IMEC готова к созданию 14-нм кристаллов
Пять нестыковок в докладе вице-президента IBM
Современные методы обеспечения качества и надежности электронных модулей и блоков

Оцените материал:

Комментарии

0 / 0
0 / 0

Прокомментировать







 

 
 




Rambler's Top100
Руководителям  |  Разработчикам  |  Производителям  |  Снабженцам
© 2007 - 2018 Издательский дом Электроника
Использование любых бесплатных материалов разрешено, при условии наличия ссылки на сайт «Время электроники».
Создание сайтаFractalla Design | Сделано на CMS DJEM ®
Контакты