TSMC примет участие в создании литографической системы для 10-нм проектов


Фаундри TSMC присоединилась к консорциуму по разработке системы многолучевой электронной литографии, возглавляемого компанией IMS Nanofabrication. Среди участников этой организации – компании Dai Nippon Printing Co., Intel и Photronics.

Цель сотрудничества этих компаний состоит в разработке к 2015 г. высокопроизводительной системы создания масок с помощью многолучевой электронной литографии для проектных норм менее 10 нм.

В настоящее время близится к завершению этап проверки концепции этой программы. На следующем этапе совместной работы консорциума будет вестись разработка и создание альфа- и бета-версий многолучевой установки для получения масок.

В сообщении не указаны финансовые условия участия TSMC и других членов этого консорциума.

Источник: EE Times

Читайте также:
Электронно-лучевая литография спешит в массы
Зачем разработчикам знать про литографию
Дискуссия о перспективах субмикронной литографии и 450-мм пластин
Ученые из Массачусетского института технологий добились 9-нм разрешения
Субмикронная УФ-литография появится нескоро
Передовые процессы литографии для современного микроэлектронного производства

Оставьте отзыв

Ваш емейл адрес не будет опубликован. Обязательные поля отмечены *