Вход |  Регистрация
 
 
Время электроники Среда, 13 ноября
 
 


Это интересно!

Ранее

Электронная промышленность продолжает восстанавливаться после кризиса еврозоны 2012 года

Активность производителей на выставке Productronica говорит о возвращении уверенности в будущем и оптимистичного настроя в электронной промышленности.

Индекс заказов SEMI остается высоким

Индекс заказов SEMI (Международной ассоциации полупроводникового оборудования и материалов) в июне устойчиво держится на отметке 1,10, что означает получение заказов на 110 долл на каждые 100 долл. оплаченной продукции.

Ожидается взрывной рост полупроводниковой индустрии

Эксперт прогнозирует рост полупроводниковой отрасли на 6,9% в этом году и двузначный рост в следующем.

Реклама

По вопросам размещения рекламы обращайтесь в отдел рекламы

Реклама наших партнеров

 

30 июля 2013

CEA-Leti продлевает действие 193-нм литографии ниже 20 нм

Результаты научно-исследовательских и опытно-конструкторских работ показали возможность применения 193-нм иммерсионной литографии для техпроцессов с нормами менее 20 нм (1X нм).

О

рганизация CEA-Leti утверждает, что её мультипартнёрские программы IDEAL и IMAGINE продемонстрировали дешёвые решения, которые распространяют 193-нм иммерсионную литографию на технормы менее 20 нм (1Х) для таких критических уровней, как контакт и межслойные переходы, и для слоя отсечки при условии использования многократного экспонирования.

Leti и Arkema запустили программу IDEAL в 2011 году для разработки литографических методов, основанных на наноструктурных полимерах, используя 300-мм DSA-процесс (directed self-assembly) и новые материалы для техпроцессов 1X. Партнёры данного проекта – Sokudo, Tokyo Electron, STMicroelectronics и передовые академические лаборатории, такие как LTM и LCPO – продемонстрировали разрешающую способность DSA для полушага менее 10 нм.

«IDEAL преодолевает пределы стандартной оптической литографии при помощи технологического решения, направленного на снижение стоимости, – сказал Серж Тедеско (Serge Tedesco), управляющий программой литографии компании Leti, – Самособирающаяся литография с блоком сополимеров является многообещающей дополнительной технологией благодаря её низкой стоимости производства и её прямой интеграции в существующие процессы производства изделий».

В результате сотрудничества компаний и лабораторий также недавно завершена интеграция DSA-процесса в 300-мм опытной линии компании Leti, и новые особые модули были реализованы в 300-мм Sokudo DUO Track для покрытия, спекания и удаления полиметилметакрилата, – это один из ключевых шагов в реализации DSA процесса.

IMAGINE, научно-исследовательская и опытно-конструкторская программа многократной литографии электронным лучом, вовлекающая дюжину партнёров, нацелена на разработку безмасочной литографии, основанной на высокопроизводительных инструментах MAPPER-литографии.

В этом году программа IMAGINE будет объединять инструмент из 1300 электронных лучей (платформа Matrix) с разработкой Sokudo 300-мм DUO Track, нацеленной на производство одной пластины в час. В начале 2015 года за этим решением последует система с 13000 лучей, что даст производительность 10 пластин в час. В долгосрочной перспективе – создание кластера из 10 модулей, позволяющего выпускать 100 пластин в час с поддержкой технологии производства логических узлов размером 1Х нм.

В 2009 году проект IMAGINE был рассчитан на три года, но получил продолжение на четыре года в 2012 г. Помимо Leti и MAPPER, программа также включает компании TSMC, STMicroelectronics, Nissan Chemical, TOK, Dow, JSR Micro, Sokudo, TEL, Mentor Graphics и Aselta Nanographics.

«Эти конкретные достижения чётко показывают производителям, что DSA и ML2 могут продвинуть 193-нм иммерсионную литографию, обеспечивая рентабельное решение для шаблонов критического слоя, – сказал Тедеско, – Они также демонстрируют значение объединения широкого и глубокого технологического потенциала компаний Leti, MAPPER, Arkema и всех наших партнёров в программе, работающей в соответствии с требованиями, предъявляемыми к 1X техпроцессам».

Читайте также:
LETI: 450-мм пластины станут необходимостью на технормах менее 7 нм
IBMобрисовала будущее микроэлектроники без технологии FinFET
Технология DSA выходит на производственный уровень
«Роснано» вложит 40 млн евро в проект по микроэлекронике
Европа должна стать конструкторским центром кремниевой фотоники

Источник: ElectronicsWeekly

Комментарии

0 / 0
0 / 0

Прокомментировать







 

Горячие темы

 
 




Rambler's Top100
Руководителям  |  Разработчикам  |  Производителям  |  Снабженцам
© 2007 - 2019 Издательский дом Электроника
Использование любых бесплатных материалов разрешено, при условии наличия ссылки на сайт «Время электроники».
Создание сайтаFractalla Design | Сделано на CMS DJEM ®
Контакты