Вход |  Регистрация
 
 
Время электроники Суббота, 16 ноября
 
 


Это интересно!

Ранее

Умные дома разоряют россиян и портят им жизнь

Умные решения для дома давно стали мейнстримом — их используют в своих проектах не только застройщики элитного жилья, но и девелоперы совсем недорогих проектов. Стоит ли все бросать и немедленно устанавливать smart-систему у себя дома? Эксперты уверяют, что нет.

Samsung и SK Hynix переводят производство чипов DRAM на технологию EUV

По сообщениям южнокорейских СМИ, компании Samsung Electronics и SK Hynix ускоряют перевод производства DRAM на технологию литографии в жестком ультрафиолетовом диапазоне (EUV).

Вслед за сгибающимся смартфоном Samsung представит гибкий планшет

Согласно информации, указанной в новом патенте, зарегистрированном компанией Samsung, южнокорейский производитель работает не только над сгибающимися смартфоном и ноутбуком, но и над аналогичным планшетом, что кажется вполне логичным. Да и слухи об этом уже появлялись в Сети.

Реклама

По вопросам размещения рекламы обращайтесь в отдел рекламы

Реклама наших партнеров

 

25 октября 2018

Samsung запустил производство чипов по 7-нм техпроцессу с EUV

Техпроцесс 7LPP (Low Power Plus) позволяет уменьшить площадь кристалла, одновременно повысив производительность или уменьшив энергопотребление.

К

омпания Samsung Electronics объявила о завершении разработки технологического процесса 7LPP и начале производства полупроводниковой продукции с его использованием. Этот 7-нанометровый техпроцесс, оптимизированный по критерию энергопотребления, построен на использовании литографии в жестком ультрафиолетовом диапазоне (EUV).

По словам одного из руководителей Samsung, внедрение 7LPP — «тихая революция в полупроводниковой отрасли». Она продемонстрировала не только текущие возможности компании, но и открыла путь к нормам 3 нм.

В широко используемой сейчас иммерсионной литографии используется источник излучения с длиной волны 193 нм, а в литографии EUV — с длиной волны 13,5 нм. В результате при EUV можно использовать одну маску для слоя там, где в иммерсионной литографии необходим дорогостоящий набор, включающий до четырех масок. Уменьшение числа масок позволяет экономить время и снизить затраты, а также повысить процент выхода годной продукции.

EUV также обеспечивает уменьшение размеров изделия при одновременном повышении производительности или уменьшении потребляемой мощности. По сравнению с 10-нанометровым предшественником выигрыш при использовании 7LPP по перечисленным критериям может достигать 40%, 20% и 50% соответственно.

Samsung подчеркивает, что партнеры по экосистеме также полностью подготовлены ​​для внедрения 7LPP с EUV. Заказчикам доступны средства проектирования, библиотеки стандартных элементов, сервисы тестирования и упаковки изделий в корпуса.

Источник: Samsung

Комментарии

0 / 0
0 / 0

Прокомментировать







 

Горячие темы

 
 




Rambler's Top100
Руководителям  |  Разработчикам  |  Производителям  |  Снабженцам
© 2007 - 2019 Издательский дом Электроника
Использование любых бесплатных материалов разрешено, при условии наличия ссылки на сайт «Время электроники».
Создание сайтаFractalla Design | Сделано на CMS DJEM ®
Контакты